光学镜片等离子清洗
产品介绍
清洗是等离子体*常见的应用。等离子清洁通常用来去除有机薄膜。去除表面上的有机污染层后就得到了非常清洁的表面。这个污染层可能只有几个分子的厚度，但却可以显著的改变表面性能。必须先通过湿法或物理方法去除明显的油污、灰尘颗粒等，*后通过低压氧气等离子清洗几分钟，不会产生化学废弃物。不同于清洗剂，等离子不会留下任何残余物。

等离子处理设备广泛应用于：
1．等离子表面活化/清洗；
2.等离子处理后粘合;
3. 等离子蚀刻/活化;
4. 等离子去胶;
5. 等离子涂镀(亲水,疏水);
6. 增强邦定性；
7.等离子涂覆；
8.等离子灰化和表面改性等场合

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